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中文摘要: 针对半球谐振子表面金属薄膜残余应力分布情况，对半球谐振子Q值的影响特性进行仿真。根据仿真结果，采用多自由度磁控溅射及基底均匀加热的方法进行薄膜沉积工艺试验。控制多自由度旋转机构自传、公转、摆动参数分别为7(r/min)、12(r/min)、15(°)/s，基体均匀加热至120℃，溅射时间26min后得到100nm左右的膜层厚度。在真空状态下对半球谐振子镀膜后品质因数进行检测，结果表明可有效控制镀膜后Q值衰减不大于30%。
Abstract:According to the distribution of the metal film residual stress on the surface of hemispherical resonator, the characteristics of Q factor of hemispherical resonator are simulated. The method of Multi-DOF magnetron sputtering coating and uniformly heating of substrate is performed to produce film deposition. The film of approximately 100 nm is obtained through uniformly heating the substrate to 120℃, sputtering about 26min, and setting the parameters of autobiography, revolution and swing of multi-DOF rotating mechanism 7 R/min, 12 R/min and 15°/s respectively. The Q factor of hemispherical resonator is tested in vacuum after coating. The experimental results show that the process can effectively control Q factor decay within 30%.
keywords: hemispherical resonator gyroscopes multi-DOF rotating mechanism coating of HRG simulation of Q factor residual stress
文章编号：20210106 中图分类号：TN305.8；TP391.9 文献标志码：A
基金项目:装发部十三五共用技术预研项目（2017-2020）
| 作者 | 单位 |
| 楚建宁 | 华中科技大学 机械科学与工程学院 |
| 朱蓓蓓 | 上海航天控制技术研究所 |
| 秦 琳 | 上海航天控制技术研究所 |
| 刘 青 | 华中科技大学 机械科学与工程学院 |
| 兰 洁 | 上海航天控制技术研究所 |
| 陈 肖 | 华中科技大学 机械科学与工程学院 |
| 许剑锋 | 华中科技大学 机械科学与工程学院 |
引用文本：
楚建宁,朱蓓蓓,秦 琳,刘 青,兰 洁,陈 肖,许剑锋.半球谐振子镀膜残余应力对品质因数影响特性分析[J].飞控与探测,2021,(1):52-59.
楚建宁,朱蓓蓓,秦 琳,刘 青,兰 洁,陈 肖,许剑锋.半球谐振子镀膜残余应力对品质因数影响特性分析[J].飞控与探测,2021,(1):52-59.